〔3〕ハニカム構造体内壁の精密研磨加工

本加工法では基材のセラミックハニカム及びメタルハニカム構造体を損傷することなくセル内壁の研磨を行うことができる画期的な研磨方法です。ハニカム形状の各種触媒担体のクリーニング、触媒成分(ウォッシュコート)等の分離回収等が可能な加工方法です。

セラミックハニカム構造体

・セラミックハニカム構造体(拡大写真)

ハニカム内壁

研磨前

研磨後

メタルハニカム構造体

・メタルハニカム構造体(拡大写真)

ハニカム内壁

研磨前

研磨後